島津色譜柱硅膠與普通硅膠相比，不同之處在于，早期填料解決峰形拖尾是用較小的烷基來覆蓋硅膠表面，這種方法僅對少數應用有效，后來有采用復雜的洗脫方法來去除表面雜質，經過這種堿性去活處理的填料性能有了較大的提高，特別是易于拖尾的堿性化合物峰形有了改善，但是，種種辦法都不盡如意。現在，我們在各種可能的方面進行了改進，解決了由填料帶來的種種問題。

島津色譜柱色譜峰拖尾的很大一部分原因是，填料硅膠中含有金屬離子雜質，在反相色譜分析中金屬離子的主要影響作用方式有一下三種：

1. 螯環化合物與金屬離子在硅膠表面的強螯合作用，使得分析中他們的分離度和靈敏度都大大下降，峰形嚴重拖尾；

2. 金屬離子可以提高硅醇基的活性，使他們更偏酸性，加重了堿性化合物的拖尾，甚至可能導致峰形無法分辨；

3. 金屬離子雜質的存在影響固定相與硅膠表面的鍵合強度，使固定相烷基在硅膠表面的分布不均勻，暴露的硅醇基和金屬雜質離子更易于影響敏感的待測分析化合物。

所以，色譜填料硅膠中的雜質含量高低，是影響色譜峰拖尾的關鍵因素。

與普通填料金屬雜質含量比較可以看出，其他普通填料的金屬離子含量遠高于液相色譜柱：

三種嚴苛測試

技術參數

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